Ti-B_4C反应路径分析  

ANALYSIS OF REACTION PATH BETWEEN Ti AND B_4C

作　　者：唐建新[1] 苗赫濯[2] 曾照强[2] 

机构地区：[1]北京航空材料研究院,北京100095 [2]清华大学材料科学与工程系,北京100084

出　　处：《金属学报》2000年第8期833-836,共4页Acta Metallurgica Sinica

摘　　要：通过热力学计算，结合 Ｔｉ－Ｂ－Ｃ的等温截面图分别获得了 Ｔｉ， Ｂ和 Ｃ在 １６００ ℃的化学势稳定图，在满足热力学和质量守恒条件下利用化学势从高向低扩散的原理，预测了在 １６００℃等温等压时 Ｔｉ和 Ｂ４Ｃ之间发生化学反应时可能存在的反应路径。利用扩散偶实验证实了该温度条件下的反应扩散路径为： Ｔｉ／ＴＩＣｘ。／ＴｉＢ／ＴｉＢ２／Ｂ４Ｃ．The stability diagram of chemical potential for Ti-B-C system at 1600 ℃ was calculated using a thermodynamic method through Ti-B-C isothermal phase diagram. The possible reaction path between Ti and B4C at 1600 ℃ has been given by using the stability diagram and thermodynamic and mass-balance condition. The reaction diffusion path demonstrated by the diffusion couple is: Ti/TiCx/TiB/TiB2/B4C.

关 键 词：扩散 反应路径 结构陶瓷 钛-碳化硼 

分 类 号：TQ174.758[化学工程—陶瓷工业]