填充比对金属光栅与介质光栅激发表面等离子波的不同影响  

Different influence of filling factor on surface plasmon polaritons of metallic or dielectric gratings

作　　者：黄少茹[1] 鲁拥华[1] 王沛[1] 明海[1] 

机构地区：[1]中国科学技术大学光学与光学工程系,安徽合肥230026

出　　处：《量子电子学报》2013年第2期225-230,共6页Chinese Journal of Quantum Electronics

基　　金：国家自然科学基金(11074240);国家基金重点项目(61036005);国家重点基础研究发展规划项目(2011cb301802);高等学校博士点专项科研基金(20113402110039)

摘　　要：采用严格耦合波理论求解了不同填充比的金属光栅与金属平面覆盖介质光栅在角度调制下的共振衰减反射谱,以及它们在表面等离子体共振时的空间场分布,并对结果进行了对比分析。通过数值计算分析了金属表面等离子体波(Surface plasmon polariton,SPP)波矢的有效折射率N_(eff)与光栅填充比的关系,结果表明对于Au金属光栅结构,SPP的N_(eff)随着光栅填充比增加并无明显变化;而对于金属平面覆盖介质光栅结构,SPP的N_(eff)随着介质光栅填充比的增大单调递增。Properties of the attenuated reflection and surface plasmon resonance （SPR） field distributions of both metallic and dielectric gratings placed on metal films were analyzed by using the rigorous coupled wave analysis. Relations between the gratings＇ filling factors and the effective index（Neff） of the surface plasmon polaritons（SPPs） propagating on both structures were investigated. The results show that the increase of filling factor can only cause trivial changes to Neff of the SPPs on gold gratings, but distinct increments to that of the dielectric gratings.

关 键 词：医用光学与生物技术 光栅 严格耦合波分析 表面等离子体波 

分 类 号：O534[理学—等离子体物理]