摩擦辅助电化学沉积技术的研究进展  

Research Progress of Abrasion-Assisted Electrodeposition Technology

作　　者：罗志辉[1] 韦庆敏[1] 刘荣军[1] 梁春杰[1] 陈渊[1] 

机构地区：[1]玉林师范学院化学与材料学院,广西玉林537000

出　　处：《电镀与环保》2013年第2期1-3,共3页Electroplating & Pollution Control

基　　金：广西理工科学实验中心资助项目(LGZXKF201111);玉林师范学院重点科研项目(2011YJZD14;2012YJZD13)

摘　　要：论述了摩擦辅助电化学沉积技术的作用机理;从电化学沉积行为特性和沉积层的形貌、织构与性能两方面着手,综述了该项技术的研究成果;概述了该项技术在工程领域中的应用,并展望了未来的发展趋势。The mechanism of abrasion-assisted electrodeposition is discussed; its research achievements are reviewed from two aspects of electrodeposition behavior characteristics as well as deposit morphology, microstructure and properties; its applications in engineering field are summarized, and its future development trend also prospected.

关 键 词：摩擦 电沉积 游离微粒 平动 旋转 

分 类 号：TQ153[化学工程—电化学工业]