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作 者:孟祥建[1] 程建功[1] 李标[1] 唐军[1] 叶红娟[1] 郭少令[1] 褚君浩[1]
机构地区:[1]中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海200083
出 处:《物理学报》2000年第4期811-815,共5页Acta Physica Sinica
摘 要:利用改进的sol gel法 ,在Pt/Ti/SiO2 /Si衬底上制备了PbZr0 .5Ti0 .5O3(PZT5 0 / 5 0 )薄膜 .采用了一种新的方式 ,从同一前驱体溶液得到了厚度各异的单一退火层 .研究了薄膜的结构和性质随单层退火厚度的改变而发生的变化 ,发现随着单一退火层厚度的降低 ,薄膜 ( 111)取向的程度增大 ,同时薄膜的剩余极化和介电常量也逐渐增高 .当单一退火层厚度降低到约为 4 0nm时 ,可得到高度 ( 111)择优取向的PZT薄膜 .从薄膜成核机理的基础上讨论了薄膜结构变化的内在因素 ,认为随单一退火层厚度的增加薄膜由单一的成核机理占主导作用 ,逐渐演变为两种成核机理同时起作用 .A novel method for preparing PbZr\-\{0.5\}Ti\-\{0.5\}O\-3(PZT50/50) thin films with different thicknesses of single\|annealed layer has been applied in a modified sol\|gel process. The effect of the thickness of single\|annealed layer on the structure and electric properties was studied. It is observed that the degree of (111) orientation for the PZT films increases with the reduction of single\|annealed layer thickness. As the thickness of single\|annealed layer drops to 40?nm, the film shows a high degree of (111) orientation. The decrease of single\|annealed layer thickness also leads to the increase of the remanent polarization and dielectric constant. The formation of (111) preferred orientation in PZT50/50 films is considered to be the result of the heterogeneous nucleation mechanism.
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