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作 者:罗小虎[1] 陈世荣[1] 杨琼[1] 谢金平 吴耀程 梁韵锐
机构地区:[1]广东工业大学,广东广州510006 [2]广东致卓精密金属科技有限公司,广东佛山528247
出 处:《印制电路信息》2013年第5期128-130,共3页Printed Circuit Information
摘 要:利用碱性蚀刻废液通过化学还原的方法制备纳米铜粉。在碱性条件下用NaBH4作还原剂;表面分散剂和保护剂用聚乙烯比咯烷酮(PVP)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB);研究结果表明,用碱性蚀刻废液制备纳米铜最佳的条件为:反应温度60℃,反应时间60 min,PVP与CTAB的用量为1:5,制备出来的纳米铜粉为单质铜,颗粒粒径在100nm以内。The paper describes the preparation of copper nanoparticles by using the alkaline etching wastewater via chemical reduction method. Using potassium borohydride as a reducing agent and polyvinylpyrrolid one(PVP), hexadecytrimethyl ammonium(CTAB) as a protective agent and dispersant in the experiment. It obtained that the best condition of synthesis of nano-copper: reduction temperature is 60℃, reduction time is 60min, ratio of PVP and CTAB is 1:5 though these experiments, size ofnano-copper is below 100nm.
分 类 号:TN41[电子电信—微电子学与固体电子学]
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