氧化气氛对氢化锆表面防氢渗透层的影响  

Influence of Oxidizing Atmosphere on Hydrogen Permeation Barriers of Zirconium Hydride

作　　者：陈伟东[1,2] 闫淑芳[1] 闫国庆[1] 张亚增[1] 

机构地区：[1]内蒙古工业大学材料科学与工程学院,内蒙古呼和浩特010051 [2]北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所,北京100088

出　　处：《稀有金属》2013年第3期418-421,共4页Chinese Journal of Rare Metals

基　　金：国家自然科学基金项目(51164023);内蒙古自然科学基金项目(2009BS0801)资助

摘　　要：通过恒温氧化实验研究了氢化锆在O2,CO2,CO2+P气氛中的氧化行为,分析了不同气氛下氢化锆表面形成氧化膜的生长速度、物相组成、表面形貌及其阻氢性能。结果表明,特定温度下氢化锆的氧化增重规律为O2>CO2>CO2+P。各氧化气氛下形成氧化膜的物相组成相同,主要由单斜相M-ZrO2和T-ZrO2组成。氢化锆在CO2+P气氛下形成的氧化膜具有较低的生长速度,氧化膜的阻氢效果较好。Oxidation behaviors of zirconium hydride in O2, CO2 and C02 ＋ P atmospheres were investigated. The growth speed, phase structure, surface morphology and hydrogen resistance property of the oxide film were analyzed. The mass gain of the zirconiumhydrides increased at the same temperature after oxidized in O2, CO2, CO2 ＋ P, respectively. The oxide films on the surface of zirconium hydride had the same phase structure but different growth rates in O2, CO2 and CO2 ＋ P. The main phase of oxide films was composed of monoclinie ZrO2 and tetragonal ZrO2. The hydrogen resistance property of the oxide film oxidized in CO2 ＋ P was optimal.

关 键 词：氢化锆 恒温氧化 氧化增重 氧化膜 

分 类 号：TG174.4[金属学及工艺—金属表面处理]