在腐植酸上二氧化氮光敏还原制备亚硝酸  

Photosensitized Reduction of Nitrogen Dioxide on Humic Acid as a Source of Nitrous Acid

作　　者：Konrad Stemmler Markus Ammann Chantal Donders Jrg Kleffmann Christian George 郑佩珠[5] 

机构地区：[1]保罗谢勒研究所放射与环境化学实验室 [2]伯尔尼大学化学与生物化学系 [3]德国迪堡大学物理化学系 [4]环境化学应用实验室 [5]中国腐植酸工业协会,北京100120

出　　处：《腐植酸》2013年第3期26-30,共5页Humic Acid

摘　　要：研究结果表明,土壤和其他含有腐植酸的表面,具有一种能产生还原表面物质的有机表面光化学,而这种还原表面物质可以选择性地与二氧化氮反应。亚硝酸形成的表观速率可以解释最近观察到的白天在边界层中亚硝酸高浓度现象,亚硝酸的光分解占整个羟基自由基源的60%。我们认为这种在腐植酸上的光诱导亚硝酸产物对最低对流层的化学过程有潜在的重要影响。Our findings indicate that soil and other surfaces containing humic acid exhibit an organic surface photochemistry that produces reductive surface species, which react selectively with nitrogen dioxide. The observed rate of nitrous acid for mation could explain the recently observed high daytime concentrations of nitrous acid in the boundary layer, the photolysis of which accounts for up to 60 percent of the integrated hydroxyl radical source strengths. We suggest that this photoinduced nitrous acid production on humic acid could have a potentially significant impact on the chemistry of the lower most troposphere.

关 键 词：亚硝酸 二氧化氮 腐植酸 还原 光化学 

分 类 号：TQ126.25[化学工程—无机化工]