检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:张杰[1]
机构地区:[1]山西大学化学系
出 处:《电镀与精饰》1991年第3期23-25,共3页Plating & Finishing
摘 要:自一九二三年镀铬引入电镀工业以来,铬镀层一直被广泛使用,其原因在于铬镀层具有许多优点。即:化学稳定性高,装饰性好、耐磨等。但是与其它常用镀层比,铬镀层是最难获得的,其工艺上存在许多缺点,主要有:(1)电流效率极低。(2)均镀和深镀能力差。(3)获得合格镀层使用的电流密度大,槽电压高,因而需价格昂贵的电源。(4)电解液具有极强的腐蚀性、很高的毒性,铬雾的产生对操作者身体造成非常有害的影响。为克服这些缺点。
分 类 号:TQ153.11[化学工程—电化学工业]
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