微通道内气体库埃特流动的DSMC模拟  被引量:1

Direct Simulation of Monte Carlo in Microchannel Couette Gas Flow

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作  者:邵霞[1] 潘剑锋[1] 薛宏 王谦[1] 唐爱坤[1] 

机构地区:[1]江苏大学能源与动力工程学院,江苏镇江212013 [2]美国加州州立工业大学,洛杉矶ca91768

出  处:《工程热物理学报》2013年第9期1752-1754,共3页Journal of Engineering Thermophysics

基  金:国家自然科学基金资助项目(No.50706016);江苏省"六大人才高峰"项目资助(No.2011-ZBZZ-27);江苏省高校优势学科建设工程资助项目;江苏大学"拔尖人才培养工程"资助项目;江苏省研究生创新计划项目(No.CXLX11_0572)

摘  要:在不同马赫数和努森数条件下,采用DSMC方法对微通道库埃特流动进行直接模拟。结果表明:近壁处速度滑移随着Kn数的增加而增大,增加壁面平移速度将会导致板间的气体温度和压力随之显著增加。在过渡流区,气流速度的增幅受到Kn(努森)层的抑制,在接近自由分子流区后逐渐分布均匀;通道内温度和压力呈现中间高、近壁区域低的分布,在流动趋向自由分子流时,通道内温度和压力分布趋向均匀。this paper discusses the micro channel Couette flow in vary Ma and Kn number using DSMC method. The slip velocity near plates increases by Kn number, and the gas temperature and pressure will increase remarkably along with the increasing of the plate velocity. In transition flow region, the velocity's amplification is kept back by Kn layer, the velocity becomes uniform distribution when approaching free molecule flow; the distributions of temperature and pressure in micro channel is high in the middle and low near the plates, and uniform when approaching free molecule flow region.

关 键 词:微通道 库埃特流动 DSMC方法 模拟 

分 类 号:TK124[动力工程及工程热物理—工程热物理]

 

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