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作 者:刘红婕[1] 孟祥杰[1] 王芳[1] 张振[1] 许良[1] 黄进[1] 蒋晓东[1] 吴卫东[1] 郑万国[1]
机构地区:[1]中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900
出 处:《光学与光电技术》2013年第4期8-11,共4页Optics & Optoelectronic Technology
基 金:中国工程物理研究院科学基金(2011B0401065和2010B0401055)资助项目
摘 要:光学元件激光损伤是限制高功率激光装置输出能力的关键因素,为了理解光学元件激光损伤过程,提高光学元件抗激光损伤性能,利用偏振阴影显微镜成像技术和光电探测技术研究了紫外皮秒激光诱使熔石英光学元件损伤的时间分辨动力学过程。结果显示了紫外皮秒激光作用过程中冲击应力波的传输特性、瞬态吸收的演变过程以及裂缝的发展过程。结果表明,冲击应力波的传输速度约为6.9μm/ns;532nm波长的激光瞬态吸收在激光作用之后2.5μs时激光吸收达到最大值,之后缓慢下降,整个持续时间可达50μs以上;损伤裂纹在7.5ns时刻就基本停止增长。研究结果对理解皮秒激光的损伤机制有重要意义。To understand laser induced damage mechanism of optics, the damage dynamics of fused silica induced by ultravio- let picosecond laser is investigated using shadow graphic and laser-deflection imaging technique and photoelectric detection technique. The results show that shock/pressure wave propagation, transient absorption and crack propagation evolve dur- ing ultraviolet picosecond laser irradiation. The speed of propagation of shock/pressure wave is about 6.9 μm/ns. The tran- sient absorption of damage region remains absorbing until 50μs. The maximum absorption is reached 2. 5 μs delay. The cracks stop growing at the 7. 5 ns delay.
分 类 号:TN248[电子电信—物理电子学]
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