检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:殷世民[1] 阮祥淼[2] 洪新华[3] 陈真诚[1]
机构地区:[1]桂林电子科技大学生命与环境科学学院,广西桂林541004 [2]国家电网河南信阳供电公司,河南信阳464000 [3]河南科技学院基础部,河南新乡453003
出 处:《红外》2013年第8期11-15,46,共6页Infrared
基 金:国家自然科学基金项目(61265006)
摘 要:针对红外成像系统的实际工程应用,阐述了红外焦平面阵列(Infrared Focal PlaneArray,IRFPA)非均匀性校正辐射定标的基本原理,推导出了红外焦平面阵列非均匀性校正属于函数插值或拟合的数学机理,给出了适于工程应用的相关非均匀性校正算法。同时,为了克服实际工作中研究设备不足等条件的限制,详细研究了红外焦平面阵列非均匀性校正的仿真技术,给出了有效的仿真算法。该仿真技术能够有效地满足实际工程中对非均匀性校正算法的验证与评估要求。According to the practical project application of an infrared imaging system,the basic radiation calibration principle for nonuniformity correction of an Infrared Focal Plane Array(IRFPA) is presented.The mathematic mechanism in which the nonuniformity correction of an IRFPA belongs to function interpolation or fitting is derived.A nonuniformity correction algorithm suitable for project application is given.Meanwhile,to overcome the limitation of device shortages in the practical research work,the simulation technique for nonuniformity correction of an IRFPA is studied in detail and an effective simulation algorithm is given.The simulation technique can meet the validation and evaluation requirements of a nonuniformity correction algorithm in practical projects.
关 键 词:红外焦平面阵列 非均匀性校正 辐射定标 数学机理 仿真技术
分 类 号:TN215[电子电信—物理电子学]
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