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出 处:《铝加工》2013年第4期39-39,共1页Aluminium Fabrication
摘 要:美国专利US6228241-B1本专利介绍的一种制备供空间应用的铝阳极氧化膜的方法包括以下步骤:1)将铝合金基体进行阳极氧化处理,以在其表面形成多孔的阳极氧化膜;2)在所得多孔氧化膜表面的微孔中电沉积一种金属;3)在已经沉积了金属的微孔中阳极电解沉积一种导电的氧化物,该导电氧化物为二氧化锰或锰的各种氧化物的混合物,这种导电氧化物填满了微孔,从而扩大了多孔阳极氧化膜的外表面。上述这种氧化膜的制备方法可用来制造空间应用的航天器的外表面阳极氧化铝膜层。该工艺制备的氧化膜可降低电阻率而不恶化其它的膜层性能如光学性能和耐蚀性,由于电阻率降低,即改善了导电性能,使电荷能通过膜层泄放,从而避免过剩电压的积累。所制得的膜层在真空等离子体中可耐高的负偏压而不发生火花。
关 键 词:铝阳极氧化膜 制备方法 空间应用 膜层性能 导电性能 阳极氧化处理 二氧化锰 低电阻率
分 类 号:TF821-18[冶金工程—有色金属冶金]
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