界面对ZrN/TaN纳米多层膜固氦性能的影响  

Interface effects on helium retention properties of ZrN/TaN nano-multilayers

作　　者：王飞[1] 刘望[1] 邓爱红[1,2] 朱敬军[1] 安竹[1] 汪渊[1] 

机构地区：[1]四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术重点实验室,成都610064 [2]四川大学物理科学与技术学院物理系,成都610064

出　　处：《物理学报》2013年第18期390-395,共6页Acta Physica Sinica

基　　金：国家自然科学基金(批准号:51171124;11275132);四川省科技支撑计划基金(批准号:07FG001-017);教育部新世纪人才基金(批准号:NCET-08-0380)资助的课题~~

摘　　要：采用射频磁控溅射方法,在混合气氛下制备了ZrN/TaN多层膜.利用X射线衍射、慢正电子束分析、增强质子背散射、扫描电子显微镜,分别对ZrN/TaN多层膜中相结构、氦相关缺陷、氦含量、截面形貌等进行了分析.结果表明,调制周期为30 nm的ZrN/TaN多层膜在600°C退火后,氦的保持率仍能达到45.6%.在适当的调制周期下,ZrN/TaN多层膜能够耐氦损伤并且其界面具有一定的固氦性能.In this paper, ZrN/TaN nano-multilayers are fabricated in mixing atmosphere by radio frequency magnetron sputtering. The phase structures, He-related defects, helium content and cross-section morphologies of ZrN/TaN nano-multilayers are characterized by X-ray diffraction, slow positron beam analysis, enhanced proton backscattering speetrome and scanning electron microscope, respectively. The results show that the interface of ZrN/TaN nano-multilayer with 30 nm modulation period is stable and could resist the damage of helium even annealed at 600 . The He retention rate of ZrN/TaN nano-multilayer with 30 nm modulation period can reach up to 45.6%.

关 键 词：ZRN TAN 纳米多层膜 界面 固氦 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]