氯硅烷的质谱碎裂规律研究:稳定的Si—Cl键  

On the Fragmentation Rule of Chlorosilane:Stable Si—Cl Bond

作　　者：李飞[1] 张华蓉[1] 蒋剑雄[1] 蒋可志[1] 

机构地区：[1]杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室,浙江杭州310012

出　　处：《杭州师范大学学报（自然科学版）》2013年第4期297-300,共4页Journal of Hangzhou Normal University(Natural Science Edition)

基　　金：浙江省自然科学基金项目(Y410020);杭州师范大学国家项目培育基金项目(2012PYJJ09)

摘　　要：对甲基氯硅烷和氯代烃的EI质谱碎裂规律进行比较和总结.甲基氯硅烷分子离子丢失甲基自由基比丢失氯自由基更容易进行.相应氯代烷烃分子离子的碎裂规律与甲基氯硅烷相反.DFT量化计算结果表明,上述碎裂反应是受热力学控制的.The paper summarized the EI fragmentation rule of methylchlorosilane with comparing with the corresponding chloralkane. Elimination of methyl radical was more feasible than the loss of chlorine radical for the molecular ion of methylchlorosilan, but this rule was contrary to that of the chloralkane molecular ions. The quantum calculation indicates that these fragmentation reactions are thermodynamically controlled.

关 键 词：氯硅烷 氯代烷烃 电子轰击电离质谱 量化计算 

分 类 号：O657.63[理学—分析化学]