3 - 12 Damage Production in LiTaO3 Crystal Induced by H- and He-ions Implantation  

作　　者：Pang Lilong Wang Zhiguang Yao Cunfeng Sun Jianrong Cui Minghua Wei Kongfang Shen Tielong Sheng Yanbin Zhu Yabin Li Yuanfei Chang Hailong Wang J i Zhu Huiping 

出　　处：《IMP & HIRFL Annual Report》2012年第1期99-100,共2页中国科学院近代物理研究所和兰州重离子研究装置年报（英文版）

关 键 词：钽酸锂晶体 离子植入 诱导 伤害 生产 离子注入 多功能材料 电光效应 

分 类 号：O738[理学—晶体学] TG174.442[金属学及工艺—金属表面处理]