检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:杨防祖[1] 蒋义锋[1] 田中群[1] 周绍民[1]
机构地区:[1]厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室,福建厦门361005
出 处:《电镀与精饰》2013年第11期9-14,46,共7页Plating & Finishing
基 金:国家自然科学基金项目(No.21021002);国家重点基础研究发展计划(No.2009CB930703)资助;福建省科技计划创新资金项目(闽科计[2013]14号);福建省经贸委企业技术创新专项资金(闽经贸计财[2011]702号)
摘 要:介绍了无氰镀铜工艺,包括预镀镍、酸性预镀铜、浸铜、焦磷酸盐镀铜、HEDP和有机膦酸多元络合镀铜、乙二胺镀铜、EDTA镀铜、一价铜镀铜和柠檬酸盐-酒石酸盐镀铜等工艺,介绍了各种预镀铜工艺的特点;阐述了柠檬酸盐-酒石酸盐镀铜需要考虑和解决的问题。Information for non-cyanide copper plating processes,including nickel pre-plating,acidic copper pre-plating,copper immersion,pyrophosphate copper plating,HEDP (1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid) bath copper plating,ethylenediamine bath copper plating,EDTA bath copper plating,cuprous ions bath copper plating and citrate/tartrate bath copper plating,were introduced,and characteristics of the above processes were stated.Problems need to be considered and solved in citrate/tartrate bath copper plating were also proposed.
分 类 号:TQ153.14[化学工程—电化学工业]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:216.73.216.249