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作 者:郭泉忠[1] 杜克勤[1] 朱秀荣[2] 徐永东[2] 王荣[2] 王福会[1]
机构地区:[1]中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁沈阳110016 [2]中国兵器科学研究院宁波分院,浙江宁波315103
出 处:《电镀与环保》2013年第6期29-32,共4页Electroplating & Pollution Control
基 金:材料基础与应用技术重点项目(A0920110028);国家科技支撑计划(2011BAE22B05)
摘 要:采用致密化微弧氧化技术在Mg-Gd-Y,AZ 91D和ZM 6三种镁合金表面制备微弧氧化膜。通过电化学阻抗谱(EIS)、扫描电镜(SEM)等手段,比较了在三种镁合金表面制备的微弧氧化膜的致密性。三种镁合金微弧氧化膜的致密性依次为:Mg-Gd-Y>AZ 91D>ZM 6。可见,基体对微弧氧化膜具有重要的影响。该影响主要是由各合金上微弧氧化膜的PBR值(即氧化物与形成该氧化物所消耗的金属的体积比)不同所导致的,PBR值越高,微弧氧化膜越致密。Micro-arc oxidation (MAO) coating was prepared on the surface of Mg-Gd-Y,AZ 91D and ZM 6 three kinds of magnesium alloys by densified micro-arc technology.The compactness of the MAO coating prepared on these three kinds of magnesium alloys was compared by means of electrochemical impedance spectroscopy (EIS),scanning electron microscope (SEM),etc.The compactness order of MAO coating is Mg-Gd-Y>AZ 91D>ZM 6.It is clear that substrate has an important effect on the compactness of MAO coating,which is mainly caused by the difference of PBR value (Pilling-Bedworth ratio of oxidation on the magnesium alloy),the higher PBR,the more compact the coating.
分 类 号:TG174[金属学及工艺—金属表面处理]
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