大颗粒缺陷在电弧离子镀所制备薄膜中的分布状态研究  

Research of macroparticles distribution in the films prepared by arc ion plating

作　　者：魏永强[1,2,3] 文振华[1,2] 蒋志强[1,2] 田修波[3] 

机构地区：[1]郑州航空工业管理学院机电工程学院,河南郑州450015 [2]航空制造及装备河南省高校工程技术研究中心,河南郑州450015 [3]哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室,黑龙江哈尔滨150001

出　　处：《真空》2013年第6期7-10,共4页Vacuum

基　　金：航空科学基金(2012ZE55011)和(2012ZD55009);国家科学基金资助项目(51105344);河南省教育厅项目(13A430397);河南省科技厅重点科技攻关计划(122102210459;122102210423;132102210323);河南省科技厅基础与前沿技术研究计划项目(132300410241)等资助;河南省高校科技创新团队支持计划(2012IRTSTHN014);河南省高校科技创新新人才支持计划(2012HASTIT 023)

摘　　要：针对电弧离子镀制备薄膜产生的大颗粒问题,本文主要研究了大颗粒在薄膜中的分布状态。根据大颗粒尺寸和薄膜厚度之间的比例关系,将其划分为三种类型:表面缺位型、镶嵌型和完全贯穿型,其中镶嵌型又划分为表面镶嵌型、中间镶嵌型、镶嵌生长型和重叠镶嵌型等四种类型,并对其形成原因分别进行了分析。Macroparticles would be produced during tile preparation of films by arc ion plating. This paper mainly studied the macroparticles distribution in the films. According to the ratio of macropartieles size to the thickness of films, the macropartieles distribution is divided into three types： surface void type, mosaic type and completely penetration type. In mosaic type, the macroparticles distribution is divided into four types, which are surface mosaic type, internal mosaic type, growth mosaic type and overlap mosaic type. The causes of these distribution types were analyzed.

关 键 词：电弧离子镀 薄膜 大颗粒 分布状态 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程] TB302.1