基于专利计量的国家H指数分析  

A Patentometric Analysis of National Patent H-Index

作　　者：佟贺丰[1] 雷孝平[1] 张静[1] 

机构地区：[1]中国科学技术信息研究所,北京100038

出　　处：《情报科学》2013年第12期78-83,共6页Information Science

基　　金：国家自然科学基金(71073153)

摘　　要：采用专利H指数,以美国专利商标局(USPTO)的专利数据作为数据源,对专利数量排名前17位的国家(地区)和金砖五国(中国、巴西、印度、俄罗斯和南非)进行了国家间的专利对比分析。研究结果表明,无论从整体分析来看,还是分六大技术领域来看,美国和日本的专利H指数都一直遥遥领先于其他国家;中国在金砖国家中表现尚可,但与其他发达国家仍有较大差距。通过国家间专利被引情况及专利实时影响指数等指标进行分析,发现与H指数的分析结果类似。We use the patent H-index and patent data from the United States Patent and Trademark Office （USPTO） to compare patent status of the top seventeen countries and regions of patent numbers and BRICS. The results find that patent H-index of America and Japan are the larger than other countries and regions not only by whole analysis but also in each of six technology fields analysis. China has good H-index value among BRICS, but a great gap with developed countries. Compared with the analysis of patent citation index and current impact index （CII）, the results are similar with H-index analysis.

关 键 词：H指数 专利分析 专利计量 

分 类 号：G250.2[文化科学—图书馆学]