利用海森堡不确定性原理研究全反射X射线光学器件的焦斑极限(英文)  

Studyon Resolution Limit of Total-Reflection X-Ray Optics with Heisenberg Uncertainty Principle

作　　者：孙天希[1,2,3] 刘志国[1,2,3] 彭松[1,2,3] 孙蔚渊 丁训良[1,2,3] 

机构地区：[1]北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京100875 [2]北京师范大学核科学与技术学院,北京100875 [3]北京市辐射中心,北京100875

出　　处：《中国激光》2013年第12期262-264,共3页Chinese Journal of Lasers

基　　金：国家自然科学基金(11075017,11375027);中央高校基本科研业务费专项资金(2012LZD07);北京市优秀人才培养项目(2010C009012000005)

摘　　要：全反射X射线光学器件在X射线显微技术中具有重要的应用,有关其焦斑极限的研究对该器件的设计者和使用者具有指导意义。利用海森堡不确定性原理研究了全反射X射线光学器件的焦斑极限。理论结果表明:全反射X射线光学器件的焦斑极限与器件的材料有关;利用镍金属、铅玻璃和硼硅酸盐玻璃制成的全反射X射线光学器件的焦斑极限分别为3.2、4.2和6.6nm。Total-reflection X-ray optics play an important role in X-ray microscopy technology, and the study on their resolution limit is helpful for both designers and users. Theoretical study on the resolution limit of total-reflection X-ray optics is presented based on the Heisenberg uncertainty principle. The theoretical results show that the resolution limit of total-reflection X-ray optics depends on material. The focal spot size limits of total-reflection X-ray optics made of nickel, lead glass and borosilicate glass are 3.2, 4.2 and 6.6 nm, respectively.

关 键 词：X射线光学 焦斑极限 海森堡不确定性原理 全反射X射线光学器件 

分 类 号：O434.1[机械工程—光学工程]