光学材料亚表面损伤表征方法研究  

作　　者：崔舒[1] 刘成有[1] 汉语[1] 徐井华[1] 张勇[1] 

机构地区：[1]通化师范学院物理学院,吉林通化134002

出　　处：《通化师范学院学报》2013年第12期21-22,48,共3页Journal of Tonghua Normal University

基　　金：吉林省教育厅"十二五"科学技术研究项目(项目编号:2013.386)

摘　　要：亚表面损伤的精确表征有助于全面掌握光学元件研磨后的亚表面损伤特征,是确定后续抛光时间和加工程序、提高研磨加工效率的切实依据.该文首先从目前比较常见的几种亚表面损伤测试技术出发,简要阐述各种测试技术的实验原理,综合实验结果分析了各种方法对亚表面损伤表征的研究状况,并对截面法在K9光学玻璃亚表面损伤方面的应用进行了实验对比研究,对比分析了研磨粒径与裂纹最大深度间的关系.

关 键 词：亚表面损伤 光学材料 表征方法 

分 类 号：O469[理学—凝聚态物理]