几何因素对Si3N4／BN层状复合材料力学性能的影响  

作　　者：昝青峰[1] 黄勇[1] 

机构地区：[1]新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京

出　　处：《材料导报》2000年第Z10期242-244,共3页Materials Reports

摘　　要：Ｓｉ３Ｎ４基层状复合材料通过引入多层结构及弱分隔层（ＢＮ）提高了Ｓｉ３Ｎ４陶瓷的韧性。而且提高的幅度受几何因素的影响，比如：层厚和层厚比。研究了此种层状材料的力学性能随几何因素变化的影响。随着层厚比（基体层厚度／分隔层厚度）的增加，Ｓｉ３Ｎ４／ＢＮ层状材料的强度和韧性都增加，但增加幅度不同。当层厚比大于４～５时，断裂功不再增加；而当层厚比大于１０时，强度也不再增加。层厚也是比较重要的一个参数，保持层厚比不变，随着层厚的增加韧性先降低后增加，而强度一直增加。因此，通过研究发现，基体层（Ｓｉ３Ｎ４）厚度为１００～１２５μｍ，分隔层厚度为１０～２０μｍ为最佳几何参数。

关 键 词：四氮化三硅/氮化硼 层状复合材料 几何参数 复合陶瓷 

分 类 号：TQ174.758[化学工程—陶瓷工业] TB332[化学工程—硅酸盐工业]