多根光纤同时曝光制作光栅的工艺研究  

作　　者：朱月红[1] 文继华[1] 王超然 

机构地区：[1]石家庄经济学院光电技术研究所,河北石家庄050031 [2]河北地经光电科技有限公司,河北石家庄050035

出　　处：《科技创新导报》2013年第29期4-4,共1页Science and Technology Innovation Herald

摘　　要：针对光纤光栅的制作工艺复杂,效率低的特点,该文首次提出多根光纤同时曝光制作光纤光栅的方法。首先对光纤的夹具进行改造。通过多次实验表明,把以前的V型夹槽改为U型夹槽,能够同时固定两根以上的光纤,并保证光纤在一个垂直平面内。其次,根据准分子激光器的光斑谱型,用反射镜、柱透镜等光学镜片对光斑进行合理的整形,使高斯光斑的能量分布达到刻栅需要的光斑。本文采用相位掩模法制作光纤光栅,通过对所做的光栅的光谱图观察,可以看出,多根光纤同时曝光的方法在提高工作效率的前提下,同时保证了光纤光栅的质量。

关 键 词：多根光纤同时照射 相位掩模 准分子激光器 

分 类 号：TN253[电子电信—物理电子学]