第十八讲 真空蒸发镀膜  

作　　者：张以忱[1] 

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2014年第1期77-80,共4页Vacuum

摘　　要：⑤具有轴向枪、磁聚焦和磁偏转90。的蒸发器：如图11（e）所示。采用水平安装电子枪，电子束经静电偏转或磁偏转之后再轰击镀料，可克服蒸气污染和占用有效空间的缺点。

关 键 词：真空蒸发镀膜 水平安装 静电偏转 有效空间 磁偏转 磁聚焦 蒸发器 电子枪 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB4[理学—物理]