Low Temperature IR Study of Shape Transition in Carbon-, Silicon-and Germanium Tetrachlorides  

作　　者：Iosif Isaevich Grinvald Ivan Yurievich Kalagaev Andrei Vladimirovich Vorotyntsev Ilya VladimirovichVorotyntsev Eugenia Alekseevna Sutyagina Ivan Alexandrovich Spirin 

机构地区：[1]Nizhny Novgorod State Technical University, Nizhny Novgorod 603950, Russia

出　　处：《材料科学与工程（中英文A版）》2013年第8期554-559,共6页Journal of Materials Science and Engineering A

关 键 词：四氯化物 分子形状 红外光谱 中碳 低温 锗 硅 温度区间 

分 类 号：O561.2[理学—原子与分子物理] TQ655[理学—物理]