氮化硅粉末的傅里叶变换红外光谱研究  

FTIR Study of Si_3N_4 Powder

作　　者：代建清[1] 黄勇[1] 谢志鹏[1] 杨金龙[1] 

机构地区：[1]清华大学材料科学与工程系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京市清华园100084

出　　处：《光谱实验室》2001年第1期78-83,共6页Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory

基　　金：高技术 86 3计划资助! (86 3- 715 - 0 6 - 0 10 0 );国家重点基础研究发展规划 (973)课题资助! (G2 0 0 0 0 6 72 0 4

摘　　要：利用透射法和漫反射法 ,研究了纯氮化硅粉末和 KBr稀释后样品的红外光谱特征 ,比较了不同方法获得的红外光谱的异同。实验发现 ,纯氮化硅粉末的漫反射光谱在约 12 0 0 cm-1处出现一尖锐的强峰 ;而KBr稀释样品的透射光谱和漫反射光谱不出现此峰。研究认为 ,该峰对应于氮化硅颗粒表面 Si— O键的振动。The linear absorbance FTIR spectrum of Si 3N 4 powder dispersed in KBr as well as the diffuse reflectance infrared fourier transform(DRIFT)spectrum of unmixed sample,was studied.An intensive peak at about 1200cm -1 exists in the DRIFT spectrum in unmixed sample,while there is no peaks at the same wave length in the linear absorbance spectrum in Si 3N 4 powder dispersed in KBr.Results indicate that the sharp peak at 1200cm -1 is corresponding to the Si O bonding of the Si 3N 4 particle surface.

关 键 词：氮化硅粉末 结构陶瓷 表面组成 结构特征 

分 类 号：TQ174.758[化学工程—陶瓷工业] TQ174.1[化学工程—硅酸盐工业]