X射线光电子能谱在材料表面研究中的应用  

Application of X-ray Photoelectron Spectroscopy in Material Surface Research

作　　者：余锦涛[1] 郭占成[1] 冯婷[2] 支歆[1] 

机构地区：[1]北京科技大学钢铁冶金新技术国家重点实验室,北京100083 [2]北京科技大学冶金实验技术中心,北京100083

出　　处：《表面技术》2014年第1期119-124,共6页Surface Technology

基　　金：国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2011AA06A105)~~

摘　　要：通过阐述XPS测试原理及工作特点,讨论其在材料表面研究中的具体应用。通过光电子谱峰位置、形状和强度,可以分析元素价态、含量。角分辨XPS可以检测超薄样品表面的化学状态,成像XPS可以显示样品表面的元素和价态分布,从而进行微区分析。利用氩离子刻蚀进行深度剖析,可以研究样品化学状态随深度的变化关系。This paper briefly reviewed the principle and characteristics of XPS in surface analysis, and described its specific application in material research. The position, shape and intensity of XPS peaks can be used for determining the chemical valence and content of elements. Ultrathin sample can be analyzed by the angleresolved XPS method. Imaging XPS could show the distri bution of element on the surface of samples and its chemical valence. Through depth profiling using argonion etching, the variation of sample chemical state with depth can be revealed.

关 键 词：X射线光电子能谱 表面分析 材料研究 

分 类 号：TH838[机械工程—仪器科学与技术]