对磁流变抛光技术中磁场的分析  

Analysis of magnetic field used in magnetorheological finishing

作　　者：张峰[1] 余景池[1] 张学军[1] 谭庆昌[2] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室,长春130022 [2]吉林工业大学机械零件教研室,长春130022

出　　处：《仪器仪表学报》2001年第1期42-44,48,共4页Chinese Journal of Scientific Instrument

基　　金：国家自然科学基金资助项目 !No 6960 80 0 6

摘　　要：本文对磁流变抛光 (magnetorheological finishing)过程中所采用的梯度磁场 ,以及磁流变抛光液 (MRP fluid)中的磁性颗粒在磁场中的受力情况进行了分析 ,进而证明了该磁场满足磁流变抛光的要求。The gradient magnetic field used in magnetorheological finishing(MRF) and the force of magnetic particle of magnetorheological polishing fluid(MRP fluid) in magnetic field are analyzed, and it is proved that the magnetic field can meet the requirement of MRF. Finally, the magnetic device was verified by means of experiments.

关 键 词：磁流变抛光 磁流变抛光液 标量磁位 磁偶极子 磁场分析 

分 类 号：TG669[金属学及工艺—金属切削加工及机床] TH74[机械工程—光学工程]