微电子二元光学器件制作工艺研究  

作　　者：文绍光 同军军 

机构地区：[1]天水七四九电子有限公司,甘肃天水741000

出　　处：《中国科技博览》2014年第5期343-343,共1页China Science and Technology Review

摘　　要：二元光学器件的基本制作工艺是超大规模集成电路中的微电子加工技术，但微电子加工属薄膜图形加工，主要控制的是二维的薄膜图形，而二元光学器件则是一种表面的三维浮雕结构，因为要同时控制平面图形的精细尺寸和纵向深度，所以其加工难度增大。

关 键 词：微电子 二元光学器件 制作工艺 

分 类 号：TG333[金属学及工艺—金属压力加工]