正交试验在多弧离子镀工艺中的应用研究  

Application Researching of Orthogonal Test on Multi-arc Ion Plating

作　　者：卢龙[1,2] 刘崇林[3] 张会霞[1] 冯光光[3] 严铿[3] 

机构地区：[1]淮海工学院机械工程学院,江苏连云港222005 [2]重庆大学机械传动国家重点实验室,重庆400044 [3]江苏科技大学材料学院,江苏镇江212003

出　　处：《铸造技术》2014年第3期511-513,共3页Foundry Technology

基　　金：国家重点实验室开放基金资助项目(SKLMT-KFKT-2009 07);江苏省海洋资源开发研究院开放基金项目(JSIMR11 C27)

摘　　要：正交试验是一种数理统计方法与科学实验相结合的试验方法,通过对多弧离子镀膜中各工艺参数进行正交试验,得到齿轮材料40Cr表面较优的镀覆工艺参数:基体负偏压150 V、TiAl靶电流60 A、N2气压5.0×10-1 Pa。在不同参数条件下所得镀膜的性能对于研究各参数对镀膜性能的影响提供了全面数据资料。The orthogonal experiment was completed on multi-arc ion plating process parameters. The results show that, with the increase of various process parameters, the surface morphology of gradient film improves, and deposition rate increases, but after more than a certain value, the surface morphology becomes poor, and the deposition rate reduces. The process parameter of greater impact on the hardness of the film is： TiA1 alloy target current 〉 bias 〉 N2 pressure; the process parameters of greater impact on adhesion strength as follows： bias 〉 N2 pressure〉 TiA1 alloy target current. According to the effect of various process parameters on the performance of the film, the obtained optimum plating process parameters on the 40Cr gear surface is： the substrate negative bias 150 V, TiAI target current 60 A, N2 pressure 5.0 ~ 10-~ Pa

关 键 词：正交试验 多弧离子镀 最优参数 

分 类 号：TG174.4[金属学及工艺—金属表面处理]