交流电在Al_2O_3模板中沉积金属机理探讨  

Mechanism of Metal Deposited in Porous Alumina by Alternating Current

作　　者：王银海[1] 牟季美[1] 蔡维理[1] 石刚[1] 

机构地区：[1]中国科学技术大学材料科学与工程,合肥230026

出　　处：《物理化学学报》2001年第2期116-118,共3页Acta Physico-Chimica Sinica

基　　金：国家自然科学基金资助项目! (19974041);国家重大基础研究资助项目! (1999-0645-01)&&

摘　　要：以铝阳极氧化形成有序的多孔氧化铝为模板，利用交流电在模板孔洞中沉积金属 Ag得到纳米 Ag粒子 /Al2O3组装体系，透射电镜观察证实在氧化铝模板中有金属纳米 Ag粒子存在 .分析了交流电能在孔洞中沉积金属的原因是由于 Al/Al2O3界面的整流特性，测量了 Al/Al2O3界面的 I－ U关系曲线 .Nano-Ag/Al2O3 assemblies were prepared by alternating current (AC) electrochemical deposition of Ag in the ordered pores of alumina membranes. TEM spectra show that Ag nanoparticles were deposited in porous alumina. The reason that metal was deposited in porous alumina by AC was attributed to rectifying properties of Al/Al2O3 interface. I - U curve of Al/Al2O3 interface was measured.

关 键 词：氧化铝模板 整流特性 交流电沉积 银纳米粒子 沉积机理 

分 类 号：O614[理学—无机化学] O646[理学—化学]