从实践中谈单片机在工业环境中的抗干扰措施  被引量:1

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作  者:王晓龙[1] 李盛[1] 许文萍[1] 

机构地区:[1]中北大学机电工程学院,山西省太原市030051

出  处:《电子技术与软件工程》2014年第8期272-272,共1页ELECTRONIC TECHNOLOGY & SOFTWARE ENGINEERING

摘  要:通过对I/O端口的光电隔离,工作环境的电磁屏蔽,传输过程的抗干扰设计,保证了单片机在工业环境下正常工作,使信号在传输过程中受到的影响最小。其中对光电耦合器的选择,尤其是传输延迟时间、响应速度、电流传输比CTR等主要因素的选择上,直接保证了信号的功率和波形能符合既定的要求。实践表明只有通过一定的抗干扰设计,单片机才能正常的工作在复杂的工业环境下。

关 键 词:电磁干扰 光耦合器 

分 类 号:TP368.1[自动化与计算机技术—计算机系统结构]

 

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