安森美半导体推出180nm工艺上经过认证的新IP模块,帮助缩短上市周期  

出　　处：《电子设计工程》2014年第10期56-56,共1页Electronic Design Engineering

摘　　要：动高能效创新的安森美半导体（ON Semiconductor，）宣布推出专有ONC18 180纳米（nm）工艺技术上的经过认证的新的知识产权（IP）。这些新的经过认证的电路模块将帮助安森美半导体的晶圆代工厂（GDS2）接口客户把需要硅片重制（re-spin）的风险降至最低，因而帮助降低新设计的开发成本及缩短上市周期。

关 键 词：安森美半导体 上市周期 SEMICONDUCTOR IP模块 认证 工艺 知识产权 电路模块 

分 类 号：TN86[电子电信—信息与通信工程]