Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色技术检测神经细胞凋亡的对比研究  

A comparative study on the measurement of neuronal cel apoptosis by Hoechst33342/PI double staining and TUNEL assay

作　　者：杨细飞[1] 贺春娥[1,2] 汤瑞华[1] 田生礼[3] 刘建军[1] 田生礼 

机构地区：[1]深圳市疾病预防控制中心,深圳市现代毒理学重点实验室,广东深圳518055 [2]深圳大学生命科学学院生物化学与分子生物学教研室,广东深圳518060 [3]深圳大学生命科学学院生物化学与分子生物学教研室,广东深圳518060

出　　处：《癌变．畸变．突变》2014年第3期180-184,共5页Carcinogenesis,Teratogenesis & Mutagenesis

基　　金：国家自然科学基金(81102154);广东省医学科研基金资助项目(B2012322);深圳市科学研究计划(医疗卫生类)(201202086);深圳市重点实验室提升项目(ZDSY20120615085804889)

摘　　要：目的：利用Hoechst33342/PI双染法和原位末端标记法（TUNEL染色检测纳米二氧化硅（nm-SiO2）对神经细胞凋亡的影响，比较两种检测方法的优缺点。方法：以体外培养的人神经母细胞瘤SK-N-SH为研究对象，15和30 nm粒径的nm-SiO2（剂量为2.5、5、10μg/mL）分别处理细胞24 h，另设1-5 m SiO2组和溶剂对照组，采用Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色检测各处理组对SK-N-SH细胞凋亡的影响。结果：与对照组相比，两种检测方法分析均显示了nm-SiO2处理组SK-N-SH细胞凋亡率显著增加（P〈0.05），且具有尺寸、剂量依赖性，而微米级SiO2对凋亡的影响不显著（P〉0.05）。结论：nm-SiO2能诱导SK-N-SH细胞凋亡。Hoechst33342/PI双染法特异性高，简单易行；TUNEL法灵敏度高，能检测少量的细胞凋亡，但成本较高，两种方法可结合使用以便更加准确的检测神经细胞的凋亡。OBJECTIVE： To evaluate the effects of nano-silica（nm-SiO2） on apoptosis of neuroblastoma cells,and compare the advantages and disadvantages of Hoechst33342/PI staining and TUNEL assay in apoptosis measurement. METHODS：Cultured human neuroblastoma SK-N-SH cells were treated with nm-SiO2 （15 and 30 nm） and micro-sized SiO2 at different doses （2.5,5 and 10μg/mL） for 24 h. Apoptotic cells were detected by Hoechst33342/PI and TUNEL staining. RESULTS：Compared with normal control,the percentages of total apoptosis in nm-SiO2-treated cells were significantly increased by both methods. CONCLUSION：nm-SiO2 increased apoptosis of SK-N-SH cells in a dose-and size-dependent manner. Hoechst33342/PI is more specific,cheaper and simpler,while TUNEL assay is more sensitive. It is recommended to combine these two methods to assess apoptosis in neuronal cells.

关 键 词：纳米二氧化硅 神经细胞 凋亡 HOECHST33342 PI双染 TUNEL 

分 类 号：R318.08[医药卫生—生物医学工程]