工业硅中金属杂质分布及存在形式  

Distribution and morphology of metal impurities in metallurgical silicon

作　　者：于站良[1] 刘仪柯[2,3] 唐雅琴[2,3] 张发云[2,3] 李水根[2,3] 熊明辉[2,3] 胡云[2,3] 

机构地区：[1]昆明冶金研究院,云南昆明650031 [2]新余学院新能源科学与工程学院,江西新余338004 [3]江西省高等学校硅材料重点实验室,江西新余338004

出　　处：《新余学院学报》2014年第3期1-4,共4页Journal of Xinyu University

基　　金：国家自然科学基金项目<特种石墨制备过程中原料加压湿法高效脱杂机理研究>(51204084);江西省自然科学基金项目<外磁场下冶金法多晶硅的杂质分凝行为和生长机制研究>(20132BAB206021);江西省教育厅科学技术研究项目项目<铸造多晶硅晶体生长技术及数值模拟研究>(11739);新余学院校级科研项目<湿法冶金在多晶硅生产过程中的应用>(xj0903)

摘　　要：选取工业硅锭不同位置的硅块做对比实验,对其中杂质特别是金属硬质杂质的形貌、分布、种类和含量做了详细研究,并对Fe、Al杂质的去除提出了湿法酸浸出的后续处理方案。In this paper,the comparative experiment was done by selecting the silicon block in the different position of metallurgical silicon ingot and the distribution, morphology, kind and content of metal impurities in metallurgical silicon were studied. The further process was proposed to remove Fe and AI impurities after wet acid leaching.

关 键 词：工业硅 金属杂质 分布 存在形式 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]