ZnO基透明导电薄膜的制备与特性研究  

Design and Properties Analogy of ZnO-Based Multilayer Transparent Conducting Film

作　　者：和晓晓 王文军[1,2] 李淑红[1,2] 刘云龙[1,2] 史强[1,2] 

机构地区：[1]聊城大学物理科学与信息工程学院,山东聊城252059 [2]山东省光通信科学与技术重点实验室,山东聊城252059

出　　处：《中国激光》2014年第6期165-168,共4页Chinese Journal of Lasers

基　　金：国家自然科学基金(61275147);山东省科技攻关计划(2010GGX10127);山东省自然科学基金(ZR2012AL11;ZR2013EML006);山东省"泰山学者"建设工程专项经费;聊城大学重点科研基金

摘　　要：透明导电薄膜被广泛应用于平板显示,太阳能电池等发光行业。透明导电薄膜厚度的减少将导电薄膜的用途大为拓展,目前该薄膜的制备仍然是研究热点。采用激光分子束外延(LMBE)镀膜系统在1.0×10-5 Pa的高真空下制备了不同厚度、不同氧压下的ZnO单层膜以及ZnO/Au/ZnO三明治结构薄膜,并进行了光谱及电阻率的测试,运用控制变量法得到ZnO和Au的最优膜层厚度。制备出通透性好(可见光透射率80%以上)、电阻率低(6.89×10-4Ω·cm)厚度均匀的透明导电薄膜。Abstract Transparent conducting films are widely used in flat panel display, photo voltaic solar cell and other lighting industries. The decreasing thickness of transparent conducting film expands the application of those films. The different thicknesses of single ZnO film and ZnO/Au/ZnO structure films are deposited by laser molecular beam epitaxy system at a pressure 1.0× 10^-5 Pa. A high quality transparent electrode with resistivity as low as 6.89 ×10^-4Ω·cm and high transmittance of 80% in visible region is obtained.

关 键 词：薄膜 ZnO/Au/ZnO 低电阻率 机理分析 

分 类 号：O433.1[机械工程—光学工程] O433.4[理学—光学]