溅射氧化铁薄膜的结构和磁性  

Microstructure and Magnetic Properties of Iron Oxide Thin Films

作　　者：周增均[1] 严隽珏[1] 李多传 

机构地区：[1]北京大学物理学系

出　　处：《北京大学学报（自然科学版）》1993年第1期117-124,共8页Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Pekinensis

摘　　要：本文报导了不同制备条件下四氧化三铁薄膜的结构和磁性。实验的关键制备条件是水蒸气和氩气的分压之比,其变化范围从1.0到3.0。透射电子显微镜研究表明了在不同的溅射条件下都可以得到结构均匀的薄膜。扫描隧道显微镜的观察清楚地显示了薄膜表面的三维形貌。The magnetic properties and microstructure of Fe3O4 thin films prepared under different conditions have been evaluated. The main deposition parameter in this study is the ratio of water vapor partial pressure to argon partial pressure, which is 1.0 to 3.0. TEM images showed that the surface structures are homogeneous for the different preparation conditions. STM study offered more detail three dimenssional surface patterns.

关 键 词：溅射薄膜 氧化铁 磁性 

分 类 号：O484[理学—固体物理]