离子渗氮自动控制系统的设计  

Design of Automatic Control System for Plasma Nitriding

作　　者：唐红文[1] 何翔[1] 陈锟[1] 

机构地区：[1]中南民族学院电子工程系

出　　处：《中南民族学院学报（自然科学版）》2001年第1期5-9,共5页Journal of South-Central University for Nationalities(Natural Sciences)

基　　金：国家民委科研基金资助项目!( MZY990 0 1)

摘　　要：给出了基于单片机的等离子体渗氮工艺自动控制系统的设计方案 ,该系统由 PIC单片机、AI智能仪表及脉冲电源等组成 ,对该系统组成部分的功能和监控程序设计作了详细地说明 ,该系统实现了对等离子体渗氮工艺的自动控制 。In this paper, a design of automatic control system for plasma nitriding is introduced. The system includes PIC single chip microcontroller, AI intelligent instrument and pulse power. It is discussed that the function of the system and monitoring program.

关 键 词：监控系统 PIC单片机 离子渗氮 自动控制系统 工艺控制 设计 

分 类 号：TG156.82[金属学及工艺—热处理] TP273.02[金属学及工艺—金属学]