合金阴极箔化学腐蚀氯离子清洗工艺的研究  

Technologies for removing chlorine ions remained after etching cathode alloy foil.

作　　者：李文胜 陈圣修 张春莲 

机构地区：[1]江西胜利电子有限公司研究所,江西景德镇333000

出　　处：《电子元件与材料》2001年第1期12-13,共2页Electronic Components And Materials

摘　　要：介绍了合金阴极箔经化学腐蚀后清洗铝箔表面残留氯离子的几种方法 ,比较了各种方法的优缺点 。Technologies for removing chlorine ions remained after etching cathode alloy foil are presented. Advantages and disadvantages of different technologies are compared. The methods for the foils of different specific capacitance are given.(no refs.)

关 键 词：阴极铝箔 氯离子 化学腐蚀 清洗工艺 合金 

分 类 号：TN305.2[电子电信—物理电子学]