检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]西安交通大学电子物理与器件研究所,陕西西安710049
出 处:《真空电子技术》2001年第2期19-22,共4页Vacuum Electronics
摘 要:介质保护膜对改善等离子体显示器的工作特性有极其重要的意义。本文概述了一些作为等离子体显示器介质保护层材料的特点 ,特别是氧化镁薄膜的性质及制备方法 ,分析了在显示屏制作过程中后工序对氧化镁介质保护层的影响 ,对等离子体显示器的产业化的发展具有重要意义。A protecting layer plays an important role for improving the discharge characteristics of plasma display panels(PDP).In this paper,the properties of materials as protecting layer of PDP,in particular,the properties and the deposition methods of MgO thin films,have been summarized.Effects of the working procedure following the deposition of MgO films on characteristics of the protecting layer have been also analyzed.This is greatly helpful to the industrial development of PDP.
分 类 号:TN873.94[电子电信—信息与通信工程]
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