EI型扩散硅力敏器件工艺技术研究  被引量:1

The Study of the Process Technology for EI-Type Silicon Pressure Sensors

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作  者:李妍君[1] 乔文华[1] 吴丁民 

机构地区:[1]沈阳仪器仪表工艺研究所,沈阳市110043

出  处:《仪表技术与传感器》1995年第1期17-19,共3页Instrument Technique and Sensor

摘  要:本文叙述的EI型扩散硅力敏器件为工业变送器配套使用的微差压传感器,其压力量程为0.6kPa,线性优于0.5%。该器件填补国内空白,器件性能指标达到国际80年代中期同类产品先进水平。This paper describes an EI-type silicon micro differential pressure sensor suitable to be applied in industrial transmitters. The measurement range of the sensor is 0. 6kPa, and the linearity is better than 0. 5%. The sen sor filled in the gap of sensing technology in China.

关 键 词:扩散硅 力敏器件 工艺 压差传感器 变送器 

分 类 号:TP212[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置] TN379[自动化与计算机技术—控制科学与工程]

 

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