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机构地区:[1]上海材料研究所,上海200437
出 处:《腐蚀与防护》2001年第4期141-143,155,共4页Corrosion & Protection
基 金:国家自然科学基金! (5 98710 18);国家重点基础研究专项经费! (G19990 6 5 0 );金属腐蚀与防护国家重点实验室资助!项目
摘 要:采用线性电位扫描法研究了不同强度磁场对铜在两种浓度氯化钠溶液中阳极溶解的作用。在高阳极电位区间铜的阳极溶解表现出传质控制的特征 ,且较高浓度氯离子对应较高阳极电流。 0 1~ 0 4T磁场增大高阳极电位区的电流密度 ,磁场作用系数 qmag随磁场强度 (B)及氯离子浓度增大而增大。qmag B曲线拟合结果表明 :介质为 0 6mol/LNaCl时 ,磁场强度指数值在 1 0~ 2 0之间 ;介质为 4 0mol/LNaCl时 ,磁场强度指数值小于 1 0。Effects of 0 1~0 4T magnetic field on anodic dissolution of Cu in NaCl solution of two concentrations were studied by linear potential sweep method Anodic dissolution of Cu at noble anodic potentials was controlled by mass transport process, higher concentration of Cl - led to higher anodic current Magnetic field of 0 1~0 4T increased current densities at noble potentials Magnetic field effect coefficient q mag increased with increasing magnetic field intensity ( B ) and Cl - concentration. q mag B curve fitting results showed that: for Cu/0 6mol·L -1 NaCl system, exponent for B was in the range 1 0~2 0; for Cu/4 0mol·L -1 NaCl system, exponents for B was less than 1 0
分 类 号:TG171[金属学及工艺—金属表面处理]
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