激光分子束外延制备高质量的YBCO超导薄膜  

作　　者：陈凡[1] 吕惠宾[1] 赵彤[1] 王荣平[1] 周岳亮[1] 陈正豪[1] 杨国桢[1] 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所

出　　处：《中国科学（A辑）》2001年第5期433-438,共6页Science in China(Series A)

基　　金：国家重点基础研究发展规划资助项目! (批准号 :G19980 6 1412 );国家"八六三"资助!项目 (批准号 :86 3 CD0 70 10 3)

摘　　要：利用活化气体做氧源 ,使生长气压比普通脉冲激光沉积方法 (PLD)低 2～ 3个数量级 ,用激光分子束外延在SrTiO3 ( 1 0 0 )衬底上制备出临界转变温度Tc0 =85～ 87K ,临界电流密度Jc≥ 1× 1 0 6A/cm2 的高质量YBCO超导薄膜 .原子力显微镜 (AFM)测得表面无明显颗粒 ,均方根粗糙度约为 7.8nm .在这种薄膜基础上制备的Joseph son量子干涉器件 (DC SQUID)

关 键 词：YBCO超导薄膜 激光分子束外延 活化气体 均方根粗糙度 高温超导材料 超导临界温度 

分 类 号：TN249[电子电信—物理电子学]