采用混合遗传-模拟退火算法对 DOE 的直接设计  

Direct Design of Quantized DOEs by Genetic Simulated Annealing Algorithm

作　　者：鲁建业[1] 李琦[1] 董蕴华[1] 高惠德[1] 马祖光[1] 

机构地区：[1]哈尔滨工业大学光电子技术研究所,哈尔滨150001

出　　处：《光电子．激光》2001年第4期365-367,共3页Journal of Optoelectronics·Laser

摘　　要：本文提出采用混合遗传 -模拟退火算法直接设计二元衍射光学元件 (DOE)的方法 ,并分别以高斯基模光束整形为平顶光束和高斯模光束分裂成等强两束高斯基模光束为例进行了模拟计算 ,结果显示在A genetic simulated annealing algorithm is proposed. Numerical simulations of shaping a Gaussian to flat-head and splitting a Gaussian wave into two with equal intensities show that even in low quantized diffractive optical elements case, this method provides a high accuracy.

关 键 词：衍射光学元件 光束整形 混合遗传-模拟退火算法 设计 

分 类 号：TH74[机械工程—光学工程]