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机构地区:[1]四川大学物理系.四川大学辐射物理及技术教育部重点实验室,成都610064
出 处:《四川大学学报(自然科学版)》2001年第3期384-387,共4页Journal of Sichuan University(Natural Science Edition)
摘 要:作者采用正电子湮没寿命谱的方法 ,研究了化学配比 (Al2 O3 /MgO)为 2 3和 2的尖晶石透明陶瓷中 ,掺入不同量La后的正电子湮没特性及缺陷情况 ,并且研究了化学配比 (Al2 O3 /MgO)为 2的尖晶石 ,在电子辐照后正电子参数的变化 .发现化学配比为 2 3的样品在低掺杂的情况下出现空位填充现象 ,而化学配比为 2的样品未出现空位填充现象 .并且发现 ,非化学配比的样品没有严格化学配比样品的抗辐照性强 .The authors use positron annihilation technology research the defects of MgAl 2O 4 doped with La. Its stoichoimetry Al 2O 3/MgO is 2 and 2.3 respectively. The authors also research the electronic irradiation effect of MgAl 2O 4 doped with La and its stoichoimetry Al 2O 3/MgO is 2 The authors discover that some La atoms are doped into lattice when stoichoimetry is 2 3 but this effect is not found when stoichoimetry is 2 The authors also discover that the sample which stoichoimetry is one is difficult to damage by electronic irradiation than the sample which stoichoimetry isn’t one.
分 类 号:TQ174.758[化学工程—陶瓷工业] O571.33[化学工程—硅酸盐工业]
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