Pb_(1-x)Ge_xTe材料及光学薄膜器件温度稳定性的研究  

作　　者：李斌[1] 张凤山[1] 张素英[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海技术物理研究所

出　　处：《红外》2001年第4期1-6,共6页Infrared

摘　　要：1薄膜光学和光学薄膜技术以及光学薄膜器件温度稳定性的研究 自二十世纪三十年代年代中期出现反射镜、减反射膜和利用光的干涉效应的滤光片以来,薄膜光学和光学薄膜技术走过了半个多世纪,已经发展成为一门成熟的工程技术学科.

关 键 词：碲锗铅材料 光学薄膜器件 温度稳定性 薄膜光学 

分 类 号：O484[理学—固体物理]