0.6—2.75MeV质子引起的Ta、Au和Bi的M壳层X—线产生截面  

M-shell X-ray Production cross Sections for Ta,Au and Bi by 0.6-2.75 MeV Proton Bombardment

作　　者：刘兆远[1] 马树勋[1] 杨坤山[1] 张华林[1] 陈熙萌[1] 季瑷 

机构地区：[1]兰州大学现代物理系,兰州730000

出　　处：《兰州大学学报（自然科学版）》1991年第4期60-63,共4页Journal of Lanzhou University(Natural Sciences)

摘　　要：用0.6～2.75MeV质子轰击Ta、An和Bi薄靶,测得M—壳层X—线产生截面。实验结果与平面波玻恩近似(PWBA)理论计算值作了比较。The thin target M-shell X-ray producion cross sections have beenmeasured for Ta, Au and Bi with impact over the energy from 0.6 to 2.75MeV. The measured cross secions are compared with the plane wave Bornapproximation (PWBA) theory.

关 键 词：质子 钽 金 铋 M-壳层 电离截面 

分 类 号：O562.4[理学—原子与分子物理]