表面分析仪器及其技术进展之三：表面分析：XPS和AES  

作　　者：黄惠忠[1] 

机构地区：[1]北京大学物理化学研究所，北京100871

出　　处：《国外分析仪器技术与应用》2001年第3期1-15,共15页Foreign Analytical Instrumentation

摘　　要：本述评综合了1997年10月到1999年10月期间国际上在表面分析领域的发展情况，着重强调这些技术在目前发展水平方面改进的思路和新趋势。本文将有助于分析工作者解决在使用XPS和AES时所遇到的问题。

关 键 词：校准 背景扣除 价带谱 协同效应 多重分裂 深度剖析 XPS AES 表面分析仪器 

分 类 号：TH838[机械工程—仪器科学与技术]