光敏剂诱导化学镀镍过程的交流阻抗研究  

AC Impedance Study of Electroless Nickel Induced by Photosensitizer

作　　者：杨玉国[1] 许韵华[1] 孙冬柏[2] 杨德钧[2] 

机构地区：[1]北方交通大学理学院,北京100044 [2]北京科技大学表面科学与腐蚀工程系,北京100083

出　　处：《北方交通大学学报》2001年第6期48-49,共2页Journal of Northern Jiaotong University

摘　　要：在光敏剂存在时 ,光照条件下可发生化学镀反应 ,阻抗图谱中出现一个容抗环和一个吸附环 ,吸附是H2 PO-2 在反应过程中的吸附 .The mechanism of electroless nickel induced by photosensitizer under illumination was studied with AC impedance method. The results show that the adsorption of H 2PO - 2 plays a key role in the process and the photosensitizer only plays the role of electron transfer.

关 键 词：光敏剂 交流阻抗 化学镀镍 反应机理 光化学原理 容抗环 吸附环 

分 类 号：TQ153.12[化学工程—电化学工业]