光电显微镜中隔圈设计的公差控制  

作　　者：张家远[1] 

机构地区：[1]中国航空长城计量测试技术研究所

出　　处：《航空计测技术》2001年第5期41-42,共2页Aviation Metrology & Measurement Technology

摘　　要：为了提高光电显微镜的瞄准精度 ,必须同时提高光学、机械两方面的设计水平 ,其中隔圈公差控制是保证光电显微镜精度的关键。本文详细地分析了隔圈的标注方法。

关 键 词：光电显微镜 隔圈 公差控制 瞄准精度 标注方法 设计方法 

分 类 号：TH741.7[机械工程—光学工程]